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作为液态钌前驱物实现了世界级行业标准蒸汽压力数值
开发了CVD/ALD用前驱物“TRuST”
2020年10月5日
田中贵金属工业株式会社 开发了比迄今为止的 液体钌 前驱物 蒸汽压力提高约 100 倍的 CVD/ALD用前驱物“TRuST”。根据本公司内部评估，该实验值为在常温下的世界级蒸汽压力数值。
在本开发的过程中，前驱物的设计及合成由田中贵金属工业负责，其成膜特性的优化研究由韩国岭南大学工科学院新材料工学部的 SOO－HYUN, KIM 教授负责。
通过本技术，对用于智能手机、计算机，以及今后预计进一步扩大需求的数据中心的半导体的性能提高及
省电性做出贡献。