烧结法的溅镀靶材

烧结法的溅镀靶材

本公司以较高水平的烧结技术来回应顾客的信赖。

应用了本公司烧结技术的贵金属薄膜材料,在以半导体及磁碟为首的各种电子产业中,获得了较高的评价。
今后,在日渐高度化的薄膜电子工程领域中,我们也将持续以贵金属溅射材料翘楚企业的身分来回应顾客的信赖。
应用了本公司卓越的溶解技术,烧结技术,再生处理技术的贵金属薄膜材料,也被广泛使用于半导体领域。其中,在以次世代的高速,大容量记忆体而倍受期待的MRAM(磁阻式随机存取记忆体)领域中,本公司应用了在磁性记录媒体用靶材生产中所培育出的制造技术,制造出高品质铁白金类合金靶材等。

磁记录媒体用靶材

应用了本公司烧结技术的贵金属薄膜材料,在以半导体及磁碟为首的各种电子产业中,获得了极高的评价。
今后,在日渐高度化的薄膜电子工程领域中,我们也将持续以贵金属溅镀材料龙头企业的身分来回应顾客的信赖。

特长

借由让氧化物在磁性材料中细微均匀分散的创造性的制法,制造加入更高品质记录媒体用氧化物的溅镀靶材。

  • 让氧化物细微均匀分散的靶材不易产生颗粒,可进行稳定的溅镀。
  • 合金组成及添加氧化物会随着硬碟的大容量化而变得复杂。本公司则可以制造出配合这种技术趋势的靶材。从试作开发品到量产阶段,都可配合顾客所需的用途提供服务。
  • 自回收废料到进行再产品化、回收附着于零件上的贵金属,皆可提供溅镀制程的综合协助。

种类

靶材 纯度 用途
CoCrPt-SiO2 99.9% 垂直磁性记录膜材料
CoCrPt-TiO2
CoCrPt-Cr2O3
加入各种复合氧化物的磁性材料
铁铂氧化物等 99.9% 次世代垂直磁性记录材料

*本表记载的合金组成为代表范例。关于各种合金组成及所添加之氧化物请与我们洽询。

用途

  • 硬碟媒体(粒状媒体)用记录膜
CoCrPt-SiO2靶材中的氧化物分散状态之范例 (黑点:二氧化矽、矩阵:均一性钴铬铂合金)

CoCrPt-SiO2靶材中的氧化物分散状态之范例
(黑点:二氧化矽、矩阵:均一性钴铬铂合金)

下一代非挥发性记忆体用靶材

应用了本公司杰出的溶解技术、烧结技术、再生处理技术的贵金属薄膜材料,也被广泛使用于半导体领域。其中,在以次世代的高速、大容量记忆体而倍受期待的MRAM(磁阻式随机存取记忆体)领域中,本公司应用了以磁性记录媒体用靶材所培育的制造技术,制造出更高品质铁白金类合金靶材等。

特长

利用真空溶解除气、急冷快速凝固的细微粉末制造,而且真空加压烧结所制造的靶材之组成分布极具均质性,不易产生颗粒,可发挥出较高的效能。

  • 借由真空溶解技术达到更少的残留氧量
  • 更高纯度(99.99%以上)、更高密度,以及较高度组成均质性
  • 可配合三元、四元合金,甚至氧化物添加等各种需求

种类

靶材 純度 用途
FePt 99.99% MRAM用强磁性膜、磁头、磁感测器
CoPt

*合金组成请与我们洽询。

用途

MRAM及磁头、磁感测器的磁性膜用

FePt铁铂靶材中铂组成的均一性 (以萤光X光分析之评估)

FePt铁铂靶材中铂组成的均一性 (以萤光X光分析之评估)