CVD / ALD 用贵金属前驱物
CVD = Chemical Vapor Deposition
ALD = Atomic Layer Deposition
开发面向次世代半导体的更高纯度贵金属前驱物。
开发・提供前驱物
在田中贵金属工业中，正开发各种CVD ／ ALD 前驱物。甚至制作半导体用薄膜的CVD装置,评估薄膜用的各种分析仪器（FE-SEM,AFM,GD-MS 等）产品俱全，依目的提供所需前驱物。
■前驱物产品范例（钌）
目前开发以钌为中心的贵金属前驱物。
| Product Name | Structure |
|---|---|
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Carish Ru liquid precursor |
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TRuST Ru liquid precursor |
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DCR Ru solid precursor |
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![[Vapor pressure比较图] Carish、TRuST、DCR](https://prod-cn-bucket-wpmedia.s3.cn-north-1.amazonaws.com.cn/wp-content/uploads/sites/images/ex/cn/products/images/a06/img_block02_01.png)