烧结法的溅镀靶材
本公司以较高水平的烧结技术来回应顾客的信赖。
应用了本公司烧结技术的贵金属薄膜材料，在以半导体及磁碟为首的各种电子产业中，获得了较高的评价。
今后，在日渐高度化的薄膜电子工程领域中，我们也将持续以贵金属溅射材料翘楚企业的身分来回应顾客的信赖。
应用了本公司卓越的溶解技术,烧结技术,再生处理技术的贵金属薄膜材料，也被广泛使用于半导体领域。其中，在以次世代的高速,大容量记忆体而倍受期待的MRAM（磁阻式随机存取记忆体）领域中，本公司应用了在磁性记录媒体用靶材生产中所培育出的制造技术，制造出高品质铁白金类合金靶材等。
磁记录媒体用靶材
应用了本公司烧结技术的贵金属薄膜材料，在以半导体及磁碟为首的各种电子产业中，获得了极高的评价。
今后，在日渐高度化的薄膜电子工程领域中，我们也将持续以贵金属溅镀材料龙头企业的身分来回应顾客的信赖。
■特长
借由让氧化物在磁性材料中细微均匀分散的创造性的制法，制造加入更高品质记录媒体用氧化物的溅镀靶材。
- 让氧化物细微均匀分散的靶材不易产生颗粒，可进行稳定的溅镀。
- 合金组成及添加氧化物会随着硬碟的大容量化而变得复杂。本公司则可以制造出配合这种技术趋势的靶材。从试作开发品到量产阶段，都可配合顾客所需的用途提供服务。
- 自回收废料到进行再产品化、回收附着于零件上的贵金属，皆可提供溅镀制程的综合协助。
■种类
| 靶材 | 纯度 | 用途 |
|---|---|---|
| CoCrPt－SiO2 | 99.9% | 垂直磁性记录膜材料 |
| CoCrPt－TiO2 | ||
| CoCrPt－Cr2O3 | ||
| 加入各种复合氧化物的磁性材料 | ||
| 铁铂氧化物等 | 99.9% | 次世代垂直磁性记录材料 |
＊本表记载的合金组成为代表范例。关于各种合金组成及所添加之氧化物请与我们洽询。
■用途
- 硬碟媒体（粒状媒体）用记录膜
CoCrPt-SiO2靶材中的氧化物分散状态之范例
（黑点：二氧化矽、矩阵：均一性钴铬铂合金）
下一代非挥发性记忆体用靶材
应用了本公司杰出的溶解技术、烧结技术、再生处理技术的贵金属薄膜材料，也被广泛使用于半导体领域。其中，在以次世代的高速、大容量记忆体而倍受期待的MRAM（磁阻式随机存取记忆体）领域中，本公司应用了以磁性记录媒体用靶材所培育的制造技术，制造出更高品质铁白金类合金靶材等。
■特长
利用真空溶解除气、急冷快速凝固的细微粉末制造，而且真空加压烧结所制造的靶材之组成分布极具均质性，不易产生颗粒，可发挥出较高的效能。
- 借由真空溶解技术达到更少的残留氧量
- 更高纯度（99.99%以上）、更高密度，以及较高度组成均质性
- 可配合三元、四元合金，甚至氧化物添加等各种需求
■种类
| 靶材 | 純度 | 用途 |
|---|---|---|
| FePt | 99.99% | MRAM用强磁性膜、磁头、磁感测器 |
| CoPt |
＊合金组成请与我们洽询。
■用途
MRAM及磁头、磁感测器的磁性膜用
FePt铁铂靶材中铂组成的均一性 （以萤光X光分析之评估）